HPHT和CVD都是人工合成鉆石的方法，但它們的生長過程和條件有所不同，HPHT(高溫高壓)鉆石技術模擬了地球深處自然形成鉆石的環境，使用高溫(約1500°C)和高壓(約6萬個大氣壓),將碳源材料與金屬觸媒一同置于壓力容器中，促進碳原子在晶種上結晶形成鉆石，而CVD(化學氣相沉積)鉆石則是通過在特殊的高溫高壓環境下，利用化學反應從氣態中生成鉆石。

兩者在合成過程、成本、特點及應用上存在一些差異，HPHT鉆石的晶體結構往往與天然鉆石更為相似，適合挑選高色級：D-E色(無需擔心有經過改色處理),高凈度VVS-VS (相對金屬包裹體少，磁性小)，而CVD鉆石則更能控制鉆石結構和質量。

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