PVD是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)的縮寫，是一種用于在基材表面生成薄膜的技術，其基本原理是通過物理方法將材料氣化，再沉積到基材表面形成涂層，PVD技術包括蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜等。

免責聲明：
本網站致力于提供合理、準確、完整的資訊信息，但不保證信息的合理性、準確性和完整性，且不對因信息的不合理、不準確或遺漏導致的任何損失或損害承擔責任。本網站所有信息僅供參考，不做交易和服務的根據， 如自行使用本網資料發生偏差，本站概不負責，亦不負任何法律責任。